SENSOR LAB zajmuje się produkcją i charakteryzacją cienkowarstwowych związków półprzewodnikowych oraz nowoczesnych struktur dwuwymiarowych. Badamy właściwości elektryczne tych materiałów pod kątem ich zastosowania w prostych urządzeniach elektronowych, takich jak czujniki pola magnetycznego. Prace badawcze w SENSOR LAB idą w kierunku opracowania i modyfikacji konstrukcji badanych czujników w celu dostosowania ich właściwości do pracy w ekstremalnie trudnych środowiskach, takich jak krio/wysokie temperatury, warunki silnego napromieniowania itp.
LOKALIZACJA: Kampus PIOTROWO, HALA A21B, pok. F5
NASZA APARATURA
Jesteśmy wyposażeni w unikatową aparaturę próżniową do wytwarzania cienkich warstw półprzewodnikowych, metalicznych i izolujących. Bardzo często nasz sprzęt budujemy sami dostosowując jego możliwości do naszych potrzeb.
Główne techniki, których używamy do produkcji cienkich warstw to metoda parowania wybuchowego (z ang. flash evaporation method) oraz fizyczne osadzanie z fazy gazowej (z ang. physical vapor deposition).
Mamy możliwość charakteryzacji elektrycznej wytworzonych materiałów dzięki aparaturze do prowadzania pomiarów galwanomagnetycznych. W naszym laboratorium mamy do dyspozycji 2 niezależne układy pomiarowe: stanowisko wyposażone w elektromagnes (0 T – 1 T), oraz stanowisko 
wyposażone w magnes stały (0.7 T). Oba układy umożliwiają prowadzenie pomiarów efektu Halla w szerokim zakresie temperatur (115 K – 825 K).
CO WYTWARZAMY I BADAMY?
Struktury, które wytwarzamy w SENSOR LAB bazują na kanałach aktywnych wykonanych z cienkich warstw półprzewodników, dwuwymiarowych pół-metali oraz materiałów warstwowych.
Kanałom aktywnym naszych struktur często nadajemy specyficzne kształty, tak zwanych krzyży hallowskich, w procesie litografii optycznej. Dzięki temu optymalizujemy możliwości pomiarowe przyszłego czujnika.
Działa to także w drugą stronę – precyzyjnie określona geometria krzyża hallowskiego pozwala nam na bardzo dokładną charakteryzację elektryczną materiału z którego wykonujemy kanał aktywny przyszłego sensora.
Oprócz kanału aktywnego, nieodzownym elementem każdej struktury hallowskiej jest układ elektrod umożliwiający integrację wytworzonej struktury z posiadanym układem pomiarowym. Elektrody wykonujemy także wykorzystując procesy litografii optycznej i próżniowe osadzanie warstw metalicznych.
SENSOR LAB NA RESEARCHGATE
REALIZOWANA TEMATYKA BADAWCZA:
Badania wpływu silnego promieniowania neutronowego na właściwości układu grafen/SiC
Badanie ograniczeń antymonku indu dla rozwoju czujników pola magnetycznego do zastosowań w ekstremalnych środowiskach
MAGSET, LIDER/8/0021/L-11/19/NCBR/2020, Czujniki pola magnetycznego do zastosowań przemysłowych w ekstremalnym zakresie temperatur
UMO-2012/07/N/ST5/00207, Zbadanie wpływu napromieniowania neutronowego na elektryczne własności cienkich warstw InGaSb
7 PR UE, Wytworzenie wysokotemperaturowych czujników Halla dla przyszłych zastosowań w pomiarach pola magnetycznego w reaktorach termojądrowych
Badanie właściwości fizycznych struktur dwuwymiarowych i materiałów warstwowych do zastosowań w detekcji pola magnetycznego
2019/35/O/ST5/01940, Badanie właściwości fizycznych cienkowarstwowych interfejsów metal/PtSe2
GRAFMAG, GRAF-TECH/NCBR/12/14/2013, Grafenowe czujniki pola magnetycznego do zastosowań przemysłowych. Zadanie: Wykonanie grafenowego czujnika EMR dla potrzeb przekładnika prądowego
Badanie planarnej konfiguracji nadzwyczajnego magnetooporu
UMO-2012/07/N/ST8/03911, Modelowanie zjawiska Nadzwyczajnego Magnetooporu w nowo opracowanych hybrydowych strukturach metal-półprzewodnik przy użyciu Metody Elementów Skończonych
Opracowanie koncepcji zmniejszenia napięcia resztkowego czujnika Halla
WSPÓŁPRACA ZEWNĘTRZNA:
